發(fā)布日期：2025年09月14日 作者：昆山超聲
1．國內(nèi)外現(xiàn)狀、水平和發(fā)展趨勢
超聲清洗技術(shù)的機理研究及設(shè)備開發(fā)與超聲清洗工藝研究及應(yīng)用在我國已有近50年的歷史,幾乎與國外同步進行的。80年代前我國超聲清洗研制單位無論從研制隊伍和生產(chǎn)有一定規(guī)模的單位為數(shù)不多,80年代后特別90年代開始隨著改革開放的深入和國民經(jīng)濟的飛速發(fā)展以及科技的不斷進步，尤其先進制造技術(shù)的需求，超聲清洗技術(shù)的研究與超聲清洗設(shè)備的研制得到了迅速發(fā)展，研制隊伍不斷壯大，研制單位不斷增多。然而目前市場較為傳統(tǒng)的超聲波清洗在對半導(dǎo)體器件、硅晶圓等精密元件的清洗中，由于頻率多在20kHz-100kHz之間，此頻率范圍內(nèi)的超聲空化效應(yīng)較大，對精密元器件表面一些微結(jié)構(gòu)會造成一定程度的損壞，同時也難清除1微米以下的雜質(zhì)顆粒，無法滿足需求。
太平淡了，要寫出目前不解決清洗的問題，晶圓就不能發(fā)展，我們國家集成電路就不能發(fā)展，只能通過超聲波清洗來解決這一問題。
2．項目開發(fā)的目的、意義
鑒于以上缺點，昆山超聲特設(shè)計一款頻率高達1.7MHz的
超聲波清洗機。
（1）超精密清洗：換能器發(fā)出波長為兆赫級的高能聲波，溶液分子在聲波的推動下作加速運動，以較強的聲壓梯度、聲流作用產(chǎn)生的高速流體力學(xué)層連續(xù)沖擊精密元件表面，大大降低元件表面與液體之間的邊界層厚度，使雜質(zhì)粒子受到溶液兆赫頻的震蕩作用從器件表面脫落，能夠清洗掉元器件表面微米、亞微米級的雜質(zhì)顆粒，
兆聲波清洗機能實現(xiàn)超精密清洗過程。
（2）不傷清洗件：兆赫級聲波極低的空化效應(yīng)，不同于產(chǎn)生駐波的超聲波清洗，而是利用高頻聲波能量使溶液以加速的流體形式，連續(xù)沖擊清洗對象，此機理方式不會損傷清洗對象，能夠有效解決精密元件清洗后造成的損傷、腐蝕等現(xiàn)象。
3．本項目達到的技術(shù)水平及市場前景
采用側(cè)槽式兆聲清洗，換能器采用高頻超聲波換能器，置于水槽四側(cè)，清洗時硅晶圓等精密元件放置在水槽中，方便用戶使用。系統(tǒng)具有過溫、過流、防反接保護等，保護性強，靈敏度高。控制電路由工業(yè)串口觸摸屏與控制電路板通訊，控制后端電路。
本兆聲波清洗機使用便捷，實現(xiàn)硅晶圓等精密元件的高效無傷清洗，具有非常廣泛的市場前景。
